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物理l气相沉积（真空镀膜）基本方法 ：

1、从沉积粒子能量（中性原子）来看，真空蒸镀为0.1-1ev，溅射为1-10ev，离子镀为0.1-1ev（此外还有高能中性原子）。

2、从沉积速率来看，真空蒸镀为0.1-70μm/min，溅射为0.01-0.05μm/min(磁控溅射接近于真空蒸镀)，离子镀为0.1-50μm/min。

真空镀膜技术优点表现在哪里？离子镀的工件为阴极，蒸发源为阳极，进入辉光放电空间的金属原子离子化后奔向工件，并在工件表面沉积成膜，沉积过程中离子对基片表面、膜层与基片的界面以及膜层本身都发生轰击作用，粒子的能量决定于阴极上所加的电压。真空镀膜技术在塑料制品上的应用广泛，真空镀膜机厂表示，塑料具有易成型，成本低，轻，不腐蚀等特点，塑料制品应用广泛，但因其缺点制约了扩大应用。通过真空镀膜技术的应用，使塑料表面金属化，将有机材料和无机材料结合起来，---提高了它的物理、化学性能。

普通真空镀膜时，蒸发料粒子大约只以一个电子伏特的能量向工件表面蒸镀，在工件表面与镀层之间，形成的界面扩散---通常仅为几百个埃（10000埃=1微米=0.0001厘米）。而离子镀时，蒸发料粒子电离后具有三千到五千电子伏特的动能。当其高速轰击工件时，不但沉积速度快，而且能够穿透工件表面，形成一种注入基体很深的扩散层，离子镀的界面扩散---可达四至五微米，也就是说比普通真空镀膜的扩散---要深几十倍，甚百倍，因而彼此粘附得---牢。大部分是离子和熔融粒子,在偏压作用下,离子流在基体上凝聚成金属、合金或化合物薄膜。

有机镀膜与无机镀膜的---区别

有机物王要指含有碳、氢两种元素的化合物，容易氧化、可燃烧、会降解。有机物的熔点较低，一般不超过400℃，热稳定性差，容易受热分解。比如含有j基（me化学式-ch3)的化合物，因成分中含有碳氢基团，都属于有机类物质。无机物指不含碳元素的纯净物，其特点：1。一般不含碳元素2。分子较小3。通常不可燃烧。如二氧化硅（sio2），中文别名r石英砂，属于无机物。由于温，蒸发料粒子获得一定动能，则沿着视线方向徐徐上升，---附着于工件表面上堆积膜。二氧化硅sio2的熔点、沸点较高（熔点1723℃，沸点2230℃）。