塑料反光灯注塑-锦城镀膜-塑料反光灯

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    2020-8-6

蔡向荣
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镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响 :

偏压:偏压施加于工件上,在辉光清洗时工件(阴极)与炉体之间产生辉光放电,部分气被电子离化产生离子,离子(带正电)在负偏压作用下受工件吸引轰击清洗工件表面,偏压越大,对工件的轰击净化越干净,但同时工件本身的温升也越大,---是尖角位棱角位置;在离子轰击中用于加速离子,提高离子轰击工件表面的能量,塑料反光灯,去除表面氧化层和吸附物,达到提高膜层结合力的作用。














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真空镀膜之多弧离子镀 :该装置的优点是阴极电弧源既是蒸发源和离化源 ,又是加热源和轰击源,不用熔池,弧源可任意方位,多源布置。离化率高,一般可达60%-80%蒸发沉积速率快, 入射粒子能量高,沉积膜的和附着性能好。可蒸发各种导电材料,金属或合金, 成份不受---。能进行反应镀膜,缺点是易于产生液滴,组织不致密。




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镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响: 

烘烤温度:真空室抽气时烘烤有利于真空室和工件解吸已吸附的空气和水气,这是---膜色调纯正的重要因素之一。要注意的是,我们的设备一般采用加热棒烘烤,以热电偶测温,热电偶的感温端位置不能靠近---棒,否则不能反映炉内环境和工件的实际温度。




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