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镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响 :
靶功率;磁控溅射本身粒子初始动能比较小,离化率低,led灯灯注塑镀膜开发,电源功率越大,溅射出的粒子的初始能量越大,靶材溅射量也越大,沉积速率越快,膜层容易上厚度和硬度,同时工件温升也大,过高的功率会使沉积速率太快,粒子来不及表面迁移和扩散,易形成阴影效应,膜层会比较疏松,应力较大。





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真空镀膜之多弧离子镀 :
多弧离子镀又称电弧离子镀或阴极离子镀是以镀膜材料为阴极,阳极和真空室相连,阴极和阳极分别接到低压大电流直流电源的负极和正极。蒸镀时由于放电,在阴极表面上出现明亮的弧斑, 从而使阴极材料蒸发并电离, 形成金属等离子体。引弧电极与阴极靶表面接触和离开的瞬间,阴极和阳极之间形成稳定的自持弧光放电。
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有机镀膜与无机镀膜的---区别
目前市场上被称作玻璃系镀膜或石英结晶镀膜的产品几乎都是以含j基的硅氧烷树脂(methylsiloxane)为主要成分的镀膜,镀膜硬化后(有些镀膜甚至无法达到完全硬化),成份中含有大量j基团(ch3),实质为有机硅树脂。这种镀膜剂在使用中,j基团会被紫外线分解,附着在上面的硅元素也随之脱落。这类镀膜剂所标称的耐久性也仅相当于树脂涂层的耐久性,---无法与不会学化的纯无机糖瞄相捏并论。
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