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pld缺点:1、在镀膜过程中,薄膜会被沉积在薄膜上的等离子本管中产生的微粒、气态原子和分子降低,采取一定的措施后也
不能完全消除.2、在控制掺杂、生长平滑的多层膜等方面pld生长部比较困难,因此进一步提高薄膜的会比较困难.





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物理l气相沉积法主要有真空蒸镀、溅射和离子镀。
真空蒸镀:在真空中加热使金属、合金或化合物蒸发,然后凝结在基体表面上的方法叫真空蒸镀。
溅射:溅射是利用高速正离子轰击某一靶材(阴极),使靶材表面原子以一定能量逸出,后在工件表面沉积的过程。
离子镀:离子镀借助于一种惰性气体的辉光放电使欲镀金属或合金蒸发离子化,新能源汽车灯杯注塑镀膜加工,并在这些荷能离子轰击基体(工件)表面并同时沉积在其上形成镀膜。


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真空镀膜之磁控溅射镀膜 :磁控溅射的基本原理就是以磁场改变电子运动方向, 束缚和延长电子的运动轨迹, 从而提高了电子对工作气体的电离几率和有效地利用了电子的能量。因此在形成高密度等离子体的异常辉光放电中正离子对靶材轰击所引起的靶材溅射有效,同时受正交电磁场的束缚的电子只能在其能量将要耗尽时才能沉积在基片上。这就是磁控溅射具有 “低温”、“高速”两大特点的机理。
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