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镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响 :弧靶电流:弧靶电流越大,靶材蒸发量越大,靶面温度越高,冷却越差,弧靶产生的液滴大颗粒越多,膜层外观越差,反光杯注塑镀膜注塑,膜层中的缺陷越多。





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用普通真空镀膜只能镀直射表面,蒸发料粒子尤如攀登云梯一样,只能顺梯而上;而离子镀则能均匀地绕镀到零件的背面和内孔中,带电离子则好比坐上了直升飞机,能够沿着规定的航线飞抵其活动半径范围内的任何地方。


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物理l气相沉积法主要有真空蒸镀、溅射和离子镀。
真空蒸镀:在真空中加热使金属、合金或化合物蒸发,然后凝结在基体表面上的方法叫真空蒸镀。
溅射:溅射是利用高速正离子轰击某一靶材(阴极),使靶材表面原子以一定能量逸出,后在工件表面沉积的过程。
离子镀:离子镀借助于一种惰性气体的辉光放电使欲镀金属或合金蒸发离子化,并在这些荷能离子轰击基体(工件)表面并同时沉积在其上形成镀膜。


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