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    2020-9-30

蔡向荣
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普通真空镀膜时,蒸发料粒子大约只以一个电子伏特的能量向工件表面蒸镀,越野车灯杯,在工件表面与镀层之间,形成的界面扩散---通常仅为几百个埃(10000埃=1微米=0.0001厘米)。而离子镀时,蒸发料粒子电离后具有三千到五千电子伏特的动能。当其高速轰击工件时,不但沉积速度快,越野车灯杯报价,而且能够穿透工件表面,形成一种注入基体很深的扩散层,离子镀的界面扩散---可达四至五微米,也就是说比普通真空镀膜的扩散---要深几十倍,甚百倍,因而彼此粘附得---牢。















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镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响 :占空比:占空比是指脉冲偏压的通断时间比,占空比越大,同一个周期时间内偏压输出时间越长,增大占空比可以提高离子轰击的能量,有利于提高膜基结合力和膜层致密性和膜层的硬度,但会提高工件的温升;减小占空比有利于抑制打火损伤和降低工件表面的温度、辉光放电清洗和离子轰击的效果。




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镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响:

真空度:真空度是指处于真空状态下气体的稀薄程度,用压强表示,压强越低,其稀薄程度越大,真空度越高。镀膜过程中,真空度主要通过控制ya气流量来改变。

ya气越少,靶材溅射量越少,但真空度越高,气体分子自由程越大,越野车灯杯,散射越少,粒子碰撞几率越小,粒子迁移过程中损失的动量越少,沉积速率越大




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