一般金属镀膜大都采用直流溅镀,而不导电的陶磁材料则使用rf交流溅镀,基本的原理是在真空中利用辉光放电(glow discharge)将---气(ar)离子撞击靶材(target)表面,电浆中的阳离子会加速冲向作为被溅镀材的负电极表面,这个冲击将使靶材的物质飞出而沉积在基板上形成薄膜。...........................






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单金属电镀至今已有170多年经历,元素周期表上已有33种金属可从水溶液中电沉积制取。常用的有电镀锌、镍、铬、铜、锡、铁、钴、镉、铅、金、银等l0余种。在阴极上同时沉积出两种或两种以上的元素所造成的镀层为合金镀层。合金镀层具有单纯金属镀层不具备的构造结构和性能,如非晶态ni—p合金,相图上没有的各蕊sn合金,以及具有特殊装饰表面,---高的抗蚀性和优良的焊接性、磁性的合金镀层等。
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