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镀膜:镀膜时,应---镀膜机的真空度达到要求后,再加热钨丝,并严格控制加热时间。同时,应掌握好镀膜用金属(如铝线)的量,太少可能导致金属膜遮盖不住底材,太多则除了浪费外,还会影响钨丝寿命和镀膜。
真空镀膜设备主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,led灯反光杯注塑价格, mbe分子束外延, pld激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。





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真空镀膜材料品种繁多,单金属型镀膜材料有:铝、锡、铟、钴、镍、铜、锌、银、金、钛、铬、钼、钨等。合金型的镀膜材料有镍-铬,镍铁,铁钴,金银-金等。金属化合物型的镀膜材料有: si02、1305 、sn02 、mgf2、zns等。在众多镀膜材料中,以铝材的应用多,这是因为铝在真空条件下,蒸发湿度较低,易操作。铝镀膜层对塑料的附着力强,led灯反光杯镀膜价格,富有金属光泽;铝镀膜层还能够遮蔽紫外线,对气体阻隔性也---。另外,高纯度的铝价格比较便宜,这是其他镀膜材料所不及的。铝的反射率高,厚度40nm铝镀膜层的反射率达90%.

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真空镀膜的形式
溅射镀膜(sputtering):用高能粒子轰击固体表面时能使固体表面的粒子获得能量并逸出表面,沉积在基片上。通常将欲沉积的材料制成板材-靶,固定在阴极上,可溅射w. ta,c,佛山led灯反光杯,mo,led灯反光杯注塑, wc、tic等难熔物质。溅射化合物膜可用反应溅射法,即将反应气体(0、n等)加入ar气中,反应气体及其离子与靶原子或溅射原子发生反应生成化合物(如氧化物、氮化物等)而沉积在基片上,沉积绝缘膜可采用高频溅射法。新型的溅镀设备几乎都使用强力磁铁将电子成螺旋状运动以加速靶材周围的y气离子化,造成靶与y气离子间的撞击机率增加,提高溅镀速率。一般金属镀膜大都采用直流(dc)溅镀,而不导电的陶瓷材料则使用射频(rf)交流溅镀。

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