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电子束蒸发源蒸镀法
将蒸发材料放入水冷铜坩锅中,直接利用电子束加热,反光杯注塑供应,使蒸发材料气化蒸发后凝结在基板表面成膜,是真空蒸发镀膜技术中的一种重要的加热方法和发展方向。电子束蒸发克服了一般电阻加热蒸发的许多缺点,---适合制作熔点薄膜材料和高纯薄膜材料。







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镀膜技术也叫薄膜技术,反光杯注塑价格,是在真空条件下采用物理或化学方法,使物体表面获得所需的膜体。镀膜技术是初起源于20世纪30年代,直到70年代后期才得到较大发展的一种技术。目前已被广泛应用于耐酸、耐蚀、耐热、表面硬化、装饰、润滑、光电通讯、电子集成、能源等领域.


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磁控溅射目前是一种应用十分广泛的薄膜沉积技术溅射技术上的不断发展和对新功能薄膜的探索研究,使磁控溅射应用延伸到许多生产和科研领域。在微电子领域作为一种非热式镀膜技术,主要应用在化学气相沉积(cvd)或金属有机化学气相沉积(mocvd)生长困难及不适用的材料薄膜沉积而且可以获得大面积非常均匀的薄膜。包括欧姆接触的a1、cu、au、w、ti等金属电极薄膜及可用于栅绝缘层或扩散势垒层的tin、ta205、ti0、a1203、zr02、a1n等介质薄膜沉积。


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