镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响:
金属过渡层:过渡层能有效的减小膜-基或不同镀层间因材料热膨胀系数等物理性能不同而形成的应力,提高结合力,但是金属过渡层太厚容易引起基体软化,结合力反而会变差。
本底漏率:本底漏率是指真空室在未加入气体单位之前本身的单位漏率,漏率越大,反光杯注塑镀膜报价,进入炉内的杂气就越多,不管真空度多高,这会---影响镀膜过程中炉内气氛的纯度和工件表面的洁净度,会破坏膜层的结合力和膜层颜色的纯度。





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真空镀膜之多弧离子镀 :该装置的优点是阴极电弧源既是蒸发源和离化源 ,又是加热源和轰击源,不用熔池,弧源可任意方位,多源布置。离化率高,一般可达60%-80%蒸发沉积速率快,反光杯注塑镀膜生产厂家, 入射粒子能量高,沉积膜的和附着性能好。可蒸发各种导电材料,反光杯注塑镀膜,金属或合金, 成份不受---。能进行反应镀膜,缺点是易于产生液滴,组织不致密。
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物理l气相沉积(真空镀膜)基本方法 :
从膜层特点看,真空蒸镀低温时密度小但表面光滑、气孔低温时多、附着性不太好、内应力为拉应力绕射性差;溅射密度大、气孔少但混入溅射气体较多、附着性较好、内应力为压应力、绕射性差;离子镀密度大 ,无气孔但膜层缺陷较多,附着性---,内应力视工艺 条件而定,绕射性较好。
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